从 5L 实验验证到 210L 规模化生产，覆盖射频、中频、晶圆及行业专用真空等离子表面处理方案。
从 5L 实验验证到 210L 规模化生产，覆盖射频、中频、晶圆及行业专用真空等离子表面处理方案。 深光达可根据材料、工件尺寸、目标工艺、洁净等级及生产节拍提供样品测试和设备选型建议。
产品参数分别来自规格书 4.0 或原网站已有产品资料。
射频真空系列VPS-RF05是一款小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强，同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 本设备采用触摸屏+PLC 可编程控制器，处理参数可以在触摸屏上任意设定，具有手动/ 自动切换功能。自动操作采用“一键式”，工作过程完全由计算机自动控制完成。手动操作由用户在手动模式界面上自行完成。
射频真空系列VPS-RF05 PRO是一款小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强，同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 本设备采用触摸屏+PLC 可编程控制器，处理参数可以在触摸屏上任意设定，具有手动/ 自动切换功能。自动操作采用“一键式”，工作过程完全由计算机自动控制完成。手动操作由用户在手动模式界面上自行完成。
射频真空系列
射频真空系列
射频真空系列VPS-RF60等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
射频真空系列VPS-RF110等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
射频真空系列VPS-RF150等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
射频真空系列VPS-RF210等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
射频真空系列
中频真空系列VPS-MF05是一款小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校、企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生小于1~2Pa的真空压强，同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，确保稳定产生高密度、高能量的离子。 等离子体与材料发生复杂的物理、化学反应，可实现清洗、活化、刻蚀与涂敷等多种工艺功能。设备采用触摸屏+PLC可编程控制器，处理参数可在触摸屏上任意设定，具有手动/自动切换功能。自动操作采用"一键式"，工作过程完全由计算机自动控制完成。
中频真空系列
中频真空系列VPS-MF60等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
中频真空系列VPS-MF110等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。
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