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VPS-RF10 真空等离子清洗机
射频真空系列

VPS-RF10 真空等离子清洗机

VPS-RF10小型低压真空等离子表面处理设备,为电容耦合(CCP)真空等离子清洗系统,在低压环境下电离工艺气体产生等离子体,通过离子轰击、化学反应实现材料表面清洗、活化、刻蚀、去胶、提高表面浸润性;全程干式处理、无化学废液,低温工艺,不损伤精密元器件。放电均匀,基材温升低。

腔体容积10L
电源功率射频电源,0-300W连续可调 抗干扰自动匹配阻抗
发生器频率13.56MHz
处理层数2层
TECHNICAL SPECIFICATIONS

技术参数

以下参数来自“VPS-RF10真空等离子清洗机V4.0.docx”。实际交付配置可根据工艺需求定制。

功率射频电源,0-300W连续可调 抗干扰自动匹配阻抗
频率13.56MHz
腔体材质进口316镜面不锈钢,军工级密封
腔体容积10L
腔体尺寸200mm(L)×270mm(W) ×200(H)mm
处理层数2层
处理面积180mm(L)*230mm(W)
流量控制进口浮子流量计 / 选配 MFC 质量流量控制器
气路数量配置2路工艺气路,支持O₂/Ar/N₂/H₂等
真空泵油泵
控制方式PLC + 触摸屏
控制过程全自动 / 手动
电源供应AC220V 50Hz
气管接口直径8mm
气体压力0.3~0.6MPa
整机功率1.5KW
外形尺寸550mm(L) × 550mm(W) × 650mm(H)
可根据不同产品的尺寸及产能等实际需求定制设备可根据不同产品的尺寸及产能等实际需求定制设备
PROCESS MATCHING SUPPORT

让设备参数匹配您的材料与产能

提供样品评估、工艺开发、配方优化与自动化接口支持。

获取选型建议
PURCHASING GUIDE

VPS-RF10 采购与工艺选型信息

参数来自规格书4.0;最终腔体、泵组、气路、自动化接口和交付范围以确认配置为准。

腔体尺寸200mm(L)×270mm(W) ×200(H)mm
腔体容积10L
功率射频电源,0-300W连续可调 抗干扰自动匹配阻抗
频率13.56MHz

标准配置与可选配置

规格书中的标准项用于基础选型;真空泵、气路、工装、冷却、数据接口及自动化上下料等可选项需结合项目确认,页面不将可选项误写为标配。

适用工艺气体

可用气体与配方取决于电源、气路配置、材料和目标;氧气、氩气、氮气等必须以该型号正式配置和样品测试为准。

典型材料与应用

适用材料和行业不能只按设备名称判断。建议同时确认工件尺寸、有效装载、污染物、后续工序、目标节拍和验收指标。

按工艺问题查找方案 →

处理效果与验收

建议保留未处理对照组,并记录设备、装载、工艺条件与检测结果。接触角、达因值、附着力、清洁度、均匀性和节拍等指标按项目选择,不使用无测试条件的绝对化数据。

如何确认这个型号是否适合我的工件?

请提供材料、长宽高、单批数量、当前问题、后续工序和目标节拍,先核对有效装载与工艺窗口。

页面参数是否等同最终交付配置?

页面用于初步选型;涉及泵组、气路、工装、自动化和安全配置时,以正式技术协议和确认规格为准。

能否先做样品测试?

可以。建议同时提供未处理对照样和验收方法,以便将测试结果转化为设备选型依据。

让参数匹配材料、装载与节拍

索取对应规格资料,或先进行样品验证。