利用等离子体中的自由基、离子、电子和紫外辐射分解或移除材料表面的油脂、脱模剂、胶黏残留与其他有机微污染,并通过真空系统或气流带走反应产物。
活性氧等物种与有机污染反应,形成可挥发的小分子产物并排出处理区域。
氩等惰性气体产生的离子可通过能量传递帮助破坏污染层,适用于需避免氧化的材料。
等离子体辐射可促进部分有机分子键断裂,与化学和物理作用协同清洁。
清除有机微污染,为键合、焊接、胶粘、涂覆与密封提供洁净界面。
去除脱模剂和加工污染,并可与后续表面活化过程组合。
适用于精密部件清洁以及粘接、镀膜和封装前表面准备。
识别污染物油脂、脱模剂、残胶、助焊剂或储存污染
确认材料风险氧化敏感性、涂层、外观和电性能要求
匹配气体参数选择反应性或惰性气体及处理窗口
验证后续工艺结合接触角、附着力、拉力或焊接质量评估