INDUSTRIAL VACUUM PLASMA

工业真空等离子清洗机

面向批量制造的中大型真空等离子清洗、活化与表面改性设备，兼顾一致性与产能。

SELECTION OVERVIEW

工业真空等离子清洗机选型概览

面向批量制造的中大型真空等离子清洗、活化与表面改性设备，兼顾一致性与产能。深光达可根据材料、工件尺寸、目标工艺、洁净等级及生产节拍提供样品测试和设备选型建议。

40L–210L量产腔体覆盖

PLC 控制标准化工艺

多气路适配不同材料

可定制对接产线与治具

AVAILABLE CONFIGURATIONS

对应产品与配置

产品参数分别来自规格书 4.0 或原网站已有产品资料。

射频真空系列

VPS-RF40

真空等离子清洗机

VPS-RF40是一款中小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。本设备为13.56MHz 射频 CCP 电容耦合真空等离子清洗机，腔体公称容积 40L，专项定制单层超大载台，适配单张最大尺寸500×500mm 柔性布料、清洗；广泛用于柔性基材、薄膜布料精密表面处理。

腔体: 40L
功率: 射频电源：13.56MHz/0-300W连续可调自动匹配阻抗
频率: 13.56 MHz

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射频真空系列

VPS-RF60

VPS-RF60等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 60L
功率: 射频电源0-600W 抗辐射干扰自动匹配阻抗
频率: 13.56MHz

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射频真空系列

VPS-RF110

真空等离子清洗机

VPS-RF110等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 115L
功率: 射频电源：13.56MHz/0-1000W连续可调抗辐射干扰自动匹配阻抗
频率: 13.56 MHz

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射频真空系列

VPS-RF150

真空等离子清洗机

VPS-RF150等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 150L
功率: 射频电源：13.56MHz/0-1000W连续可调抗辐射干扰自动匹配阻抗
频率: 13.56 MHz

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射频真空系列

VPS-RF210

真空等离子清洗机

VPS-RF210等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 210L
功率: 射频电源：13.56MHz/0-1000W连续可调抗辐射干扰自动匹配阻抗
频率: 13.56 MHz

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中频真空系列

VPS-MF60

真空等离子清洗机

VPS-MF60等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 60L
功率: 中频电源0-3000W
频率: 40kHz

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中频真空系列

VPS-MF110

真空等离子清洗机

VPS-MF110等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统、电控系统、进气流量控制系统组成。反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照最优的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

腔体: 115L
功率: 中频电源0-5000W连续可调
频率: 40 kHz

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