等离子表面蚀刻是一种等离子处理方法，用于在微观尺度上增加材料的表面积。使用活性工艺气体蚀刻部件表面。
表面材料被蚀刻掉，转化为气相，并通过真空系统去除。表面面积大大增加，提高了表面能，使材料易于润湿。等离子表面蚀刻用于印刷、粘合和喷漆之前，特别适用于加工 POM 和 PTFE 等材料，这些材料如果不使用腐蚀性化学品就无法印刷或粘合。
等离子表面蚀刻效果
未处理的表面--等离子处理前的表面显微图像未
等离子处理表面- 等离子处理后的聚四氟乙烯表面的显微图像显示其蚀刻效果得到改善，因此表面更加粗糙
反应离子蚀刻将高能反应离子的高定向通量输送到材料表面。这样，当未掩蔽的样品被反应离子蚀刻掉时，就会在基材上形成精确受控的图案。我们的每个等离子系统都可以选择安装反应离子蚀刻电极，使其成为半导体或有机电子研究等应用中完美的低成本实验室开发工具。
等离子处理前
等离子处理期间
等离子处理后
等离子蚀刻适用于：
l 聚甲醛 (POM)、聚四氟乙烯 (PTFE)、聚全氟乙丙烯 (FEP)、可可粉 (PFA)
l PTFE 复合材料
l 结构硅
l 光刻胶灰化
