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LABORATORY PLASMA SYSTEMS

小型实验等离子清洗机

面向高校科研、材料验证、工艺开发与小批量打样的小型真空等离子设备。

SELECTION OVERVIEW

小型实验等离子清洗机选型概览

面向高校科研、材料验证、工艺开发与小批量打样的小型真空等离子设备。 深光达可根据材料、工件尺寸、目标工艺、洁净等级及生产节拍提供样品测试和设备选型建议。

5L–10L紧凑腔体
研发验证便于配方筛选
精细控制可调功率与气路
灵活部署实验室友好
AVAILABLE CONFIGURATIONS

对应产品与配置

产品参数分别来自规格书 4.0 或原网站已有产品资料。

VPS-RF05 真空等离子清洗机射频真空系列
VPS-RF05

真空等离子清洗机

VPS-RF05是一款小型真空等离子处理系统,广泛应用于科研院校,企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强,同时根据客户工艺要求,对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体,采用进口高品质等离子发生器,使得通入的工艺气体产生等离子体,并确保稳定产生高密度,高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理,化学反应,可以实现不同的工艺功能,比如清洗,活化,刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 本设备采用触摸屏+PLC 可编程控制器,处理参数可以在触摸屏上任意设定,具有手动/ 自动切换功能。自动操作采用“一键式”,工作过程完全由计算机自动控制完成。手动操作由用户在手动模式界面上自行完成。

腔体
5L
功率
射频电源,0-200W连续可调
频率
13.56 MHz
真空等离子清洗机射频真空系列
VPS-RF05 PRO

真空等离子清洗机

VPS-RF05 PRO是一款小型真空等离子处理系统,广泛应用于科研院校,企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强,同时根据客户工艺要求,对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体,采用进口高品质等离子发生器,使得通入的工艺气体产生等离子体,并确保稳定产生高密度,高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理,化学反应,可以实现不同的工艺功能,比如清洗,活化,刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 本设备采用触摸屏+PLC 可编程控制器,处理参数可以在触摸屏上任意设定,具有手动/ 自动切换功能。自动操作采用“一键式”,工作过程完全由计算机自动控制完成。手动操作由用户在手动模式界面上自行完成。

腔体
5L
功率
射频电源0-300W连续可调 自动匹配阻抗
频率
13.56 MHz
VPS-RF10 真空等离子清洗机射频真空系列
VPS-RF10

真空等离子清洗机

VPS-RF10小型低压真空等离子表面处理设备,为电容耦合(CCP)真空等离子清洗系统,在低压环境下电离工艺气体产生等离子体,通过离子轰击、化学反应实现材料表面清洗、活化、刻蚀、去胶、提高表面浸润性;全程干式处理、无化学废液,低温工艺,不损伤精密元器件。放电均匀,基材温升低。

腔体
10L
功率
射频电源,0-300W连续可调 抗干扰自动匹配阻抗
频率
13.56MHz
VPS-RFQ05 真空等离子清洗机射频真空系列
VPS-RFQ05

真空等离子清洗机

VPS-RFQ05是一款高纯石英腔体款,专为超高洁净、无金属污染、等离子可视化观测、可使用弱腐蚀工艺气体的高端研发场景打造,区别常规不锈钢腔体机型。适用场景:高校科研实验室、新材料研发、微流控、PDMS 键合、光学元件、半导体晶圆、生物医疗器件、敏感材料表面改性、微量样品精密处理。

腔体
5L
功率
射频电源,0-300W连续可调,自动匹配阻抗
频率
13.56 MHz
VPS-MF05 等离子清洗机中频真空系列
VPS-MF05

等离子清洗机

VPS-MF05是一款小型真空等离子处理系统,广泛应用于科研院校、企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生小于1~2Pa的真空压强,同时根据客户工艺要求,对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体,采用进口高品质等离子发生器,确保稳定产生高密度、高能量的离子。 等离子体与材料发生复杂的物理、化学反应,可实现清洗、活化、刻蚀与涂敷等多种工艺功能。设备采用触摸屏+PLC可编程控制器,处理参数可在触摸屏上任意设定,具有手动/自动切换功能。自动操作采用"一键式",工作过程完全由计算机自动控制完成。

腔体
5L
功率
中频电源,0-600W连续可调
频率
40kHz
VPS-MF10 真空等离子清洗机中频真空系列
VPS-MF10

真空等离子清洗机

VPS-MF10小型低压真空等离子表面处理设备,为电容耦合(CCP)真空等离子清洗系统,在低压环境下电离工艺气体产生等离子体,通过离子轰击、化学反应实现材料表面清洗、活化、刻蚀、去胶、提高表面浸润性;全程干式处理、无化学废液,低温工艺,不损伤精密元器件。放电均匀,基材温升低。

腔体
10L
功率
中频电源,0-600W连续可调
频率
40kHz
PROCESS MATCHING SUPPORT

让设备配置匹配材料与产能

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