最新资讯
  • 2908-2025
    真空等离子清洗机参数中,哪个对清洗效果影响最大?
    真空等离子清洗机参数中,哪个对清洗效果影响最大?
    在真空等离子清洗机的关键参数中,‌射频功率‌对清洗效果的影响最为显著,其作用机制及影响维度如下:‌1. 射频功率的核心作用‌···
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  • 2908-2025
    真空等离子清洗机选型时需要注意哪些关键参数?
    真空等离子清洗机选型时需要注意哪些关键参数?
    选型真空等离子清洗机时,需重点关注以下关键参数:‌1. 真空系统参数‌‌极限真空度‌:反映设备能达到的最低压力,直接影响等离···
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  • 2808-2025
    ICP刻蚀机在柔性电子制造上有哪些优势?
    ICP刻蚀机在柔性电子制造上有哪些优势?
    深圳深光达科技有限公司是一家拥有高水平专业的等离子体技术领域的创新公司。我们专注于等离子(PLASMA)清洗工艺技术和相关装备的···
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  • 2808-2025
    ICP刻蚀机在硅基材料刻蚀上的优势
    ICP刻蚀机在硅基材料刻蚀上的优势
    ICP刻蚀机在硅基材料刻蚀上的优势‌1. 高刻蚀速率与高效加工‌ICP刻蚀机通过电感性耦合产生高密度等离子体,显著提升刻蚀速率。典···
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  • 2708-2025
    等离子体刻蚀中的精度提升是如何实现的?
    等离子体刻蚀中的精度提升是如何实现的?
    等离子体刻蚀中的精度提升主要通过以下技术路径实现,结合硬件创新与工艺优化,可实现亚纳米级(<1nm)的线宽控制:‌1. 等离子···
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  • 2708-2025
    等离子刻蚀成为半导体制造不可或缺的核心工艺
    等离子刻蚀成为半导体制造不可或缺的核心工艺
    ‌等离子刻蚀‌是一种基于等离子体活化反应的干法刻蚀技术,广泛应用于半导体制造、光电器件及微机电系统(MEMS)等领域。其核心原···
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  • 2608-2025
    微波等离子清洗技术在半导体领域具有显著优势
    微波等离子清洗技术在半导体领域具有显著优势
    微波等离子清洗技术在半导体领域具有显著优势,其核心价值体现在‌高效清洁、低温无损、高精度控制及工艺集成化‌,具体优势及技···
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  • 2608-2025
    微波等离子清洗机适用于哪些领域清洗?
    微波等离子清洗机适用于哪些领域清洗?
    微波等离子清洗技术凭借其高密度等离子体、低温工艺及无电极污染等特性,‌广泛适用于对清洁度、精度和材料保护要求极高的领域‌···
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  • 2508-2025
    提升Plasma清洗机的处理效率保障操作人员安全
    提升Plasma清洗机的处理效率保障操作人员安全
    操作Plasma等离子清洗机时,需严格遵循以下关键注意事项,以确保设备安全、处理效果稳定及人员健康,具体分为‌操作前准备‌、‌···
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