VPS-RF210 大型真空等离子体清洗设备

产品简介：

VPS-RF210是一款大型真空等离子体清洗设备，适用于大批量工业生产使用。等离子体清洗通过其中的活性离子与物体表面发生化学反应来达到清洗的目的。例如通过氧气清洁物体表面的有机物，产生氧化反应，氧等离子体和污染物产生二氧化碳、氧化碳和水。通过氮气电离形成的等离子体可以与部分子结构发生关键反应，因此它也是一种活性气体，但与氧气和氢气相比，颗粒相对较重；在清洗和活化的同时，可以达到一定的轰击和蚀刻效果，防止部分金属表面氧化。如今，等离子清洗机广泛用于当代半导体、电路等行业，在元件封装前、芯片键合前可借助等离子清洗处理，其优点是清除效率高，不会对样品表面造成损伤，从而提升产品的质量。

产品特点：欧美放电技术，专利型放电结构，科学仿真等离子体分布均匀，处理效果均匀

产品应用：提高亲水性、改善粘接性、表面微刻蚀、有机物去除、提高表面能、提高印刷油墨附着力

       
产品参数：